石英玻璃的熱膨脹系數(shù)小，為5.5×10-7/℃，只有普通玻璃的1/12～1/20.部標準規(guī)定將試樣灼燒到1200℃后急速投到冷水中，反復三次以上不允許炸裂。石英玻璃加入適量鈦后還可做成零膨脹系數(shù)的材料，在技術、和尖端技術中已得到應用

石英玻璃具有的光學性能，不僅可見光透光度特別好，而且透紫外線，紅外線。

石英玻璃是良好的耐酸材料，除氫氟酸和300以上的熱磷酸外，在高溫下，它能耐硫酸，硝酸，鹽酸，王水，中性鹽類，碳和硫等侵蝕，其化學穩(wěn)定性相當于耐酸陶瓷的30倍，相當于鎳鉻合金和陶瓷的150倍，它耐高溫，耐熱震，熱膨漲系數(shù)特別小。

1.遠紫外光學石英玻璃 JGS1 在紫外和可見光譜范圍內透明； 在185-250nm波段范圍內無吸收帶； 在2600-2800nm波段范圍內有強吸收帶；非發(fā)光，光輻射穩(wěn)定。

2.紫外光學石英玻璃 JGS2 在紫外和可見光譜范圍內透明; 在200-250nm波段范圍內無吸收帶；在2600-2800nm波段范圍內有強吸收帶；非發(fā)光，光輻射穩(wěn)定

3.紅外光學石英玻璃 JGS3在可見和紅外光譜范圍內透明； 在2600-2800nm波段范圍內無明顯吸收帶

和普通硅酸鹽玻璃相比，透明石英玻璃在整個波長頭優(yōu)良的透過性能。在紅外區(qū)光譜透過比普通玻璃大；在可見區(qū)，石英玻璃的透過率也是比較高的。在紫外光譜區(qū)特別是在短波紫外區(qū)，光譜透過比其他玻璃好的多 光譜透過率受三個因素影響：反射，散射和吸收。石英玻璃的反射一般為8%，紫外區(qū)大一些，紅外區(qū)小一些。所以石英玻璃的透過率一般不大于92%。石英玻璃的散射比較小，一般可以忽略。光譜吸收和石英玻璃的雜質含量和生產工藝有密切的關系；在低于200鈉米波段的透過率的高低，代表金屬雜質含量的多少；240鈉米的吸收表示缺氧結構的多少；可見波段的吸收是由于過渡金屬離子的存在造成的，2730鈉米的吸收是羥基的吸收峰，可以用于計算羥基含量。 石英片的形成是由于其熔體高溫黏度很高引起的結果。用于制作半導體、電光源器、半導通信裝置、激光器，光學儀器，實驗室儀器、電學設備、醫(yī)療設備和耐高溫耐腐蝕的化學儀器、化工、電子、冶金、建材以及國防等工業(yè)，應用十分廣泛。

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計量單位：千克 供貨總量：20000 最小起訂量：20 產品單價：20.00 品牌： 規(guī)格型號： 包裝說明：

石英玻璃是二氧化硅單一成分的非晶態(tài)材料，其微觀結構是一種由二氧化硅四面結構體結構單元組成的單純網絡，由于Si-O化學鍵能很大，結構很緊密，所以石英玻璃具有獨特的性能，尤其透明石英玻璃的光學性能非常優(yōu)異，在紫外到紅外輻射的連續(xù)波長范圍都有優(yōu)良的透射比。石英玻璃采用高純度的硅砂作為原料，制作的傳統(tǒng)方法是熔融-淬滅方法（加熱材料到熔化溫度，然后快速冷卻到玻璃的固態(tài)相）；制作超高純度和紫外透射比的透明玻璃需硅的汽化、氧化成二氧化硅并加熱溶解等過程。石英玻璃的形成是由于其熔體高溫黏度很高引起的結果。用于制作半導體、電光源器、半導通信裝置、激光器，光學儀器，實驗室儀器、電學設備、醫(yī)療設備和耐高溫耐腐蝕的化學儀器、化工、電子、冶金、建材以及國防等工業(yè)，應用十分廣泛。高純石英玻璃可制光導纖維。隨著半導體技術的發(fā)展，石英玻璃被廣泛的用于半導體生產的各項工序中。比如，直拉法把多晶轉化成單晶硅；清洗時用的清洗槽；擴散時用的擴散管、刻槽舟；離子注入時用的鐘罩等等。