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鋼化玻璃自爆率分析與風(fēng)險(xiǎn)防控技術(shù)要點(diǎn)
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玻璃擁有良好的透過(guò)、透光性能,化學(xué)穩(wěn)定性較高,并且可以根據(jù)不同加工方法來(lái)獲得較強(qiáng)的機(jī)械強(qiáng)度與保溫隔熱效果,甚至能夠使玻璃自主變色,隔絕過(guò)強(qiáng)的光線,因此常用于各行各業(yè),滿足不同的需求。接下來(lái)請(qǐng)看鋼化玻璃爆開(kāi)會(huì)受到哪些因素影響,以及Low-E玻璃是如何生產(chǎn)的,增進(jìn)了解。
鋼化玻璃在無(wú)直接機(jī)械外力作用下發(fā)生的自動(dòng)性炸裂叫做鋼化玻璃的爆開(kāi),根據(jù)行業(yè)經(jīng)驗(yàn),普通鋼化玻璃的爆開(kāi)率在1~3‰左右。爆開(kāi)是鋼化玻璃固有的特性之一。
擴(kuò)大產(chǎn)生爆開(kāi)的原因很多,簡(jiǎn)單地歸納以下幾種:
①玻璃質(zhì)量缺點(diǎn)的影響
A、玻璃中有結(jié)石、雜質(zhì),氣泡:玻璃中有雜質(zhì)是鋼化玻璃的薄弱點(diǎn),也是應(yīng)力集中處。特別是結(jié)石若處在鋼化玻璃的張應(yīng)力區(qū)是導(dǎo)致炸裂的重要因素。
結(jié)石存在于玻璃中,與玻璃體有著不同的膨脹系數(shù)。玻璃鋼化后結(jié)石周圍裂紋區(qū)域的應(yīng)力集中成倍地增加。當(dāng)結(jié)石膨脹系數(shù)小于玻璃,結(jié)石周圍的切向應(yīng)力處于受拉狀態(tài)。伴隨結(jié)石而存在的裂紋擴(kuò)展較易發(fā)生。
B、玻璃中含有硫化鎳結(jié)晶物
硫化鎳夾雜物一般以結(jié)晶的小球體存在,直徑在0.1—2㎜。外表呈金屬狀,這些雜夾物是Ni3S2,Ni7S6和Ni—XS,其中X=0—0。07。只有Ni1—XS相是造成鋼化玻璃自發(fā)炸碎的主要原因。
已知理論上的NIS在379。C時(shí)有一相變過(guò)程,從高溫狀態(tài)的α—NiS六方晶系轉(zhuǎn)變?yōu)榈蜏貭顟B(tài)β—NiS三方晶系過(guò)程中,伴隨出現(xiàn)2.38%的體積膨脹。這一結(jié)構(gòu)在室溫時(shí)保存下來(lái)。如果以后玻璃受熱就可能迅速出現(xiàn)α—β態(tài)轉(zhuǎn)變。如果這些雜物在鋼化玻璃受張應(yīng)力的內(nèi)部,則體積膨脹會(huì)引起自發(fā)炸裂。如果室溫時(shí)存在a—NIS,經(jīng)過(guò)數(shù)年、數(shù)月也會(huì)慢慢轉(zhuǎn)變到β態(tài),在這一相變過(guò)程中體積緩慢加大未必造成內(nèi)部破裂。
C、玻璃表面因加工過(guò)程或操作不當(dāng)造成有劃痕、炸口、深爆邊等缺點(diǎn),易造成應(yīng)力集中或?qū)е落摶AП_(kāi)。
②鋼化玻璃中應(yīng)力分布不均勻、偏移
玻璃在加熱或冷卻時(shí)沿玻璃厚度方向產(chǎn)生的溫度梯度不均勻、不對(duì)稱。使鋼化制品有爆開(kāi)的趨向,有的在激冷時(shí)就產(chǎn)生“風(fēng)爆”。如果張應(yīng)力區(qū)偏移到制品的某一邊或者偏移到表面則鋼化玻璃形成爆開(kāi)。
③鋼化程度的影響,實(shí)驗(yàn)證明,當(dāng)鋼化程度提高到1級(jí)/cm時(shí)爆開(kāi)數(shù)達(dá)20%~25%。由此可見(jiàn)應(yīng)力越大鋼化程度越高,爆開(kāi)量也越大。
目前的兩種Low-E玻璃生產(chǎn)方法
在線高溫?zé)峤獬练e法:
在線高溫?zé)峤獬练e法"Low-E"玻璃在美國(guó)有多家公司的產(chǎn)品.如PPG公司的 Surgate200,福特公司的Sunglas H.R"P".這些產(chǎn)品是在浮法玻璃冷卻工藝過(guò)程中完成的.液體金屬或金屬粉沫直接噴射到熱玻璃表面上,隨著玻璃的冷卻,金屬膜層成為玻璃的一部分 .固此,該膜層堅(jiān)硬耐用.這種方法生產(chǎn)的"Low-E"玻璃具有許多優(yōu)點(diǎn):它可以熱彎,鋼化,不必在中空狀態(tài)下使用,可以長(zhǎng)期儲(chǔ)存.它的缺點(diǎn)是熱學(xué)性能比較差 .除非膜層非常厚,否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半.如果想通過(guò)增加膜厚來(lái)改善其熱學(xué)性能,那么其透明性就非常差.
離線真空濺射法
離線法生產(chǎn)Low-E玻璃,是目前全部上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù).用濺射法可以生產(chǎn)"Low-E"玻璃的廠家及產(chǎn)品有北美的英特佩公司的"LnplusNetetralR",PPG公司的Sungatel00,福特公司的SunglasHRS等 .和高溫?zé)峤獬练e法不同,濺射法是離線的.且據(jù)玻璃傳輸位置的不同有水平及垂直之分.
濺射法工藝生產(chǎn)"Low-E"玻璃,需一層純銀薄膜作為功能膜.純銀膜在二層金屬氧化物膜之間.金屬氧化物膜對(duì)純銀膜提供保護(hù),且作為膜層之間的中間層增加顏色的純度及光透射度.
垂直式生產(chǎn)工藝中,玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕數(shù)量級(jí)的真空環(huán)境中,通入適量的工藝氣體(惰性氣體Ar或反應(yīng)氣體O2、N2),并保持真空度穩(wěn)定.將靶材Ag、Si等嵌入陰較,并在與陰較垂直的水平方向置入磁場(chǎng)從而構(gòu)成磁控靶.以磁控靶為陰較,加上直流或交流電源,在高電壓的作用下,工藝氣體發(fā)生電離,形成等離子體.其中,電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下,進(jìn)行高速螺旋運(yùn)動(dòng),碰撞氣體分子,產(chǎn)生更多的正離子和電子;正離子在電場(chǎng)的作用下,達(dá)到一定的能量后撞擊陰較靶材,被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜.為了形成均勻一致的膜層,陰較靶靠近玻璃表面來(lái)回移動(dòng).為了取得多層膜,必須使用多個(gè)陰較,每一個(gè)陰較均是在玻璃表面來(lái)回移動(dòng),形成一定的膜厚.
水平法在很大程度上是和垂直法相似的.主要區(qū)別在玻璃的放置,玻璃由水平排列的輪子傳輸,通過(guò)陰較,玻璃通過(guò)一系列銷定閥門(mén)之后,真空度也隨之變化.當(dāng)玻璃到達(dá)主要濺射室時(shí),鍍膜壓力達(dá)到,金屬陰較靶固定,玻璃移動(dòng).在玻璃通過(guò)陰較過(guò)程中,膜層形成.
目前,國(guó)產(chǎn)和絕大部分進(jìn)口磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的目標(biāo)產(chǎn)品均是以鍍制單質(zhì)膜和金屬膜為主的陽(yáng)光控制膜玻璃.這類產(chǎn)品工藝相對(duì)簡(jiǎn)單,對(duì)設(shè)備的要求較低.因此,這些生產(chǎn)線不能滿足鍍制LOW-E玻璃的要求.
相關(guān)概念
物體由于外因(受力、濕度、溫度場(chǎng)變化等)而變形時(shí),在物體內(nèi)各部分之間產(chǎn)生相互作用的內(nèi)力,以抵抗這種外因的作用,并試圖使物體從變形后的位置恢復(fù)到變形前的位置。 在所考察的截面某一點(diǎn)單位面積上的內(nèi)力稱為應(yīng)力。同截面垂直的稱為正應(yīng)力或法向應(yīng)力,同截面相切的稱為剪應(yīng)力或切應(yīng)力。
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