玻璃歷史悠久，性質(zhì)穩(wěn)定，是歷經(jīng)時(shí)間考驗(yàn)的優(yōu)良材料，不但能夠用于裝飾，也可在各種光學(xué)儀器中發(fā)揮重要作用，甚至能夠用來(lái)幫助建筑節(jié)能降噪。聚晶玻璃與彩繪玻璃性能優(yōu)越，適合使用玻璃進(jìn)行裝飾的場(chǎng)合，具有堅(jiān)固耐用、不易褪色的特點(diǎn)。

一、彩繪玻璃和聚晶玻璃的裝飾性能

        彩繪玻璃,是目前家居裝修中較多運(yùn)用的一種裝飾玻璃.彩繪玻璃圖案豐富亮麗,居室中彩繪玻璃的恰當(dāng)運(yùn)用,能較自如地創(chuàng)造出一種賞心悅目的和諧氛圍,增添浪漫迷人的現(xiàn)代情調(diào). 多適用于賓館大堂、餐廳、酒吧、高等寫(xiě)字樓和家庭客廳等室內(nèi)頂棚、板墻、屏風(fēng)或窗戶(hù),其美感效果主要在于引進(jìn)自然,使自然景觀和人文景觀在現(xiàn)代建筑空間再現(xiàn). 利用彩繪玻璃進(jìn)行裝飾,可拓展空間的高層度和廣度,將一個(gè)封閉的室內(nèi)與外界的景觀,通過(guò)藝術(shù)的再造,默契地調(diào)和成一體,使人們置身于室內(nèi),而又仿佛與外界自然息息相通,產(chǎn)生舒暢、自由、快樂(lè)的心理感覺(jué),打破了傳統(tǒng)裝飾的慣例,形成了源于自然又高于自然的情調(diào)風(fēng)格.同時(shí),彩繪玻璃也有多方面的實(shí)用功能,具有隔音、照明、耐陳舊等特點(diǎn).

        聚晶玻璃是利用普通玻璃加工而成,聚晶玻璃油漆制作成多種風(fēng)格不同的塊件,色彩永不脫落,是一種全新的裝飾材料.聚晶玻璃已在外國(guó)流行,廣泛用于浴室、廚房、窗臺(tái)、線條、大堂墻幕以及一切室內(nèi)墻壁的表面及地面裝飾,也可制作成廚臺(tái)、餐桌、家具、屏風(fēng). 聚晶玻璃并且能與木制品混合使用,其性能耐濕、防潮、抗酸、抗堿.

二、玻璃衣柜門(mén)用什么材質(zhì)的好

        玻璃衣柜門(mén)的材質(zhì)已經(jīng)確定就是玻璃.玻璃衣柜門(mén)采用玻璃材質(zhì),有全透玻璃門(mén)、半透玻璃門(mén)以及全不透的玻璃門(mén).另外,由于玻璃材質(zhì)的獨(dú)特性質(zhì),能塑造很多豐富的圖樣和花紋,通過(guò)玻璃上印花、烤漆、貼膜等等工藝,讓衣柜煥發(fā)光彩,將不同的文化色彩融入其中,展現(xiàn)獨(dú)特是家居風(fēng)情.

        玻璃衣柜門(mén)堅(jiān)固穩(wěn)定、不會(huì)變形、表面光滑、手感較佳,解決了木質(zhì)衣柜易受潮的問(wèn)題,清洗方便,門(mén)面晶瑩剔透,擁有很好的視覺(jué)效果.

相關(guān)概念

玻璃

        玻璃是非晶無(wú)機(jī)非金屬材料，一般是用多種無(wú)機(jī)礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長(zhǎng)石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽，是一種無(wú)規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物，用來(lái)隔風(fēng)透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類(lèi)而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃，和通過(guò)物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱(chēng)作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

粘貼

        “粘貼”一詞的正確讀音是“zhān tiē ”(1) [用黏性的東西使紙張等附著在別的東西上(2) ;濕的東西貼在別的物體上。粘貼：網(wǎng)絡(luò)術(shù)語(yǔ)，指將一個(gè)文本或一段文字復(fù)制或剪切后移動(dòng)到另一個(gè)位置或另一個(gè)文本中。

掩模

        掩模版（mask）簡(jiǎn)稱(chēng)掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形，光線透過(guò)它，把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱(chēng)為倍縮式掩模（reticle）。

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