在我國高功率激光系統(tǒng)的研制工作中，光隔離器所使用的大口徑磁旋光玻璃一直是制約系統(tǒng)開發(fā)的瓶頸之一。目前,世界上掌握這一制造技術(shù)的僅有日本、德國和俄羅斯等少數(shù)幾個(gè)發(fā)達(dá)國家,其中能制造口徑在φ200mm磁旋光玻璃的技術(shù)始終被日本、俄羅斯所壟斷。由于磁旋光玻璃制造技術(shù)難度大、工藝復(fù)雜,該技術(shù)一直被國外列要點(diǎn)限制出口的范圍。我國開展磁旋玻璃的研究工作已有二十年,目前雖已能夠制造普通的磁旋光玻璃,但在研在制大口徑磁旋光玻璃的關(guān)鍵技術(shù)上終未能取得打破,且產(chǎn)品均勻性不高遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足國家科研工作和大工程目對(duì)這一材料的需求。
　　我所瞬態(tài)光學(xué)與光電子學(xué)國家要點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室年輕的研究人員鄒快盛博士及其課題組經(jīng)過10個(gè)月的艱苦探索和實(shí)驗(yàn)研究，終于在研制大口徑磁旋光玻璃的關(guān)鍵技術(shù)上取得重大打破,成功研制出高光學(xué)均勻性φ300mm的大口徑磁旋光玻璃各項(xiàng)性能指標(biāo)均優(yōu)于日本公司其光學(xué)均勻性Δn達(dá)到±1×10-6，達(dá)到了實(shí)際應(yīng)用的技術(shù)要求。　
　　該技術(shù)的完成填補(bǔ)了空白區(qū)域，打破了全部壟斷與封鎖，對(duì)國家高技術(shù)的發(fā)展提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐，具有重要的戰(zhàn)略意義，在全部領(lǐng)域中具有一定的顯示度。