鈦硅合金材料是一種高熔點的金屬間化合物，具有低的密度、良好的舒緩反應性，因而受到廣泛的重視。TiSi2是一種重要的硅化物，具有較好的高溫穩(wěn)定性、較高的高溫強度和良好的舒緩反應能力，有希望成為1200℃以上使用的結(jié)構(gòu)材料。由于其電阻和熱阻均較低，TiSi2也有希望應用于電氣連接和擴散阻擋層，目前已被作為歐姆接觸和金屬互聯(lián)材料廣泛用于超大規(guī)模集成電路制造技術中。形成鈦硅涂層，用磁控濺射法，鈦硅（TiSi）靶材在反應沉積過程中與氮氣反應，能理想的形成超硬的氮化物涂層。另外TiSi2薄膜在高溫下對壓力很敏感，有望成為高溫時的壓力感應器材料。Ti5Si3具有六方D88型晶體結(jié)構(gòu)，具有高溫強度大，抗高溫氧化性能好等優(yōu)點。

TiSi具有低電阻率、較高的熱穩(wěn)定性以及化學穩(wěn)定性等諸多不錯的性能。傳統(tǒng)的鈦硅合金的制備是采用純金屬鈦和硅為原料制備的，由于金屬鈦制備成本高，工藝流程長，導致制備的鈦硅合金成本較高。工業(yè)用硅粉、碳粉和碳化鈦為原料，利用放電等離子燒結(jié)技術原位反應制備了TiSi2/SiC兩相復合材料。弱放熱反應TiSi2燃燒合成的粉末冶金技術，用自蔓延高溫燃燒法合成了TiSi2單相化合物，其合成過程需要氬氣保護。鈦硅合金材料是一種高熔點的金屬間化合物，具有低的密度、良好的舒緩反應性，因而受到廣泛的重視。

HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導電薄膜。HIT電池是在晶體硅上沉積非晶硅薄膜，其結(jié)構(gòu)是以N型單晶硅片作襯底，正反面依次沉積本征非晶硅薄膜、摻雜非晶硅薄膜、金屬氧化物導電層TCO，再通過絲網(wǎng)印刷制作正負電極，從而導出電流。比較成熟，成本占比不高，大約5%左右。HIT 薄膜電池帶動光伏靶材需求。目前國內(nèi)光伏電池主要以硅片涂覆型太陽能電池為主，薄膜電池以及HIT占比較低，但是未來增長潛力較大。2018年大部分國家薄膜電池量保持11%增長，預計未來維持10%以上；HIT有望保持高速增長，隨著國內(nèi)投資熱情高漲，產(chǎn)能有望從目前2GW增長至2024年的100GW以上。綜合測算，預計我國太陽能電池用靶材市場規(guī)模持續(xù)擴大。CAGR保持在15%以上，到2024年，我國太陽能電池用靶材行業(yè)市場規(guī)模有望打破70億元。

濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對比:濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量大的PVD鍍膜材料。蒸發(fā)鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

噴涂技術在工業(yè)應用上非常廣泛。采用冷噴涂沉積Fe(Al)固溶體合金涂層并結(jié)合后熱處理原位反應制備了納米結(jié)構(gòu)FeAl金屬間化合物涂層。結(jié)果表明，球磨Fe(Al)合金粉末具有精細的層狀結(jié)構(gòu)，噴涂態(tài)Fe(Al)合金涂層具有不同于傳統(tǒng)熱噴涂涂層的獨特層狀結(jié)構(gòu)，保留了與原始粉末類似的納米結(jié)構(gòu)；熱等靜壓法是將粉末或預先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)。成型和燒結(jié)同時進行。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術難以獲得高密度、大尺寸的材料。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時，由于受到腔室尺寸的限制，會導致設備投資非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸較大時存在變形問題。同時，壓制不同尺寸的素坯時，需要制備不同規(guī)格的預壓模具，模具成本較高。

國際上通常把商品硅分成金屬硅和半導體硅，金屬硅主要用來制作多晶硅、單晶硅、硅鋁合金及硅鋼合金的化合物。金屬銦具有延展性好，可塑性強，熔點低，沸點高，低電阻，抗腐蝕等優(yōu)良特性，且具有較好的光滲透性和導電性，被廣泛應用于宇航、無線電和電子工業(yè)、國防、高新技術、能源等領域。生產(chǎn)ITO靶材（用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕）是銦錠的主要消費領域，占大部分國家銦消費量的70%；其次電子半導體領域，占大部分國家消費量的12%。我國國內(nèi)的靶材市場需求也會大幅增加，同時，隨著國內(nèi)濺射靶材技術的不斷成熟，再加上其先天的性價比優(yōu)勢，預計2018年中國半導體靶材市場增速有望達到60%，遠高于大部分國家平均水平。結(jié)語綜上，未來的2~3年，大部分國家靶材制造產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)能增速會保持在3%~5%。而中國靶材市場的產(chǎn)能復合年增長率將達到30%以上！

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術開發(fā)和應用的重要高新技術企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術創(chuàng)新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產(chǎn)學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關機構(gòu)的授予多個榮譽：如“國家生產(chǎn)力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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