主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導(dǎo)體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進行處理，將會是對稀貴材料的較大浪費；同時，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材，由于材料價格昂貴，迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘進行回收加工增值服務(wù)，有效增加材料利用效率和節(jié)約資源。對于貨品余料殘屑及殘的處理可為機械物理法回收和化學(xué)精煉提純回收。機械物理法可應(yīng)用于單質(zhì)金屬殘靶及加工廢料。通過機械切削對單質(zhì)殘表面進行處理，然后采用酸洗去除表面殘留雜質(zhì)的方法對殘祀回收再利用。

鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結(jié)方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶，大尺寸靶是通過小尺寸拼接形成。 由于不是一體化（需要拼接）容易產(chǎn)生電弧放電，因此成膜質(zhì)量差，難以真實應(yīng)用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管，人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管，并通過銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉(zhuǎn)靶材。由于銦焊料昂貴（占整個靶材成本50% )導(dǎo)致鋁釹 旋轉(zhuǎn)靶材的成本高；另一方面，由于是一節(jié)節(jié)靶管拼接而成存在節(jié)縫，在使用時容易形成電 弧放電，降低成膜質(zhì)量。此外，由于采用低熔點的銦焊接，靶材使用時發(fā)熱，容易導(dǎo)致脫靶現(xiàn) 象，還有鋁釹靶管焊接時熱收縮不容易控制，焊接難度大。

真空鍍膜機是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。當(dāng)薄膜運行速度達到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、純凈的清潔生產(chǎn)設(shè)備。

綜合優(yōu)勢顯著。濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言，蒸鍍薄膜的密度較差，只能達到理論密度的95%，鍍膜的附著力也較差，但是蒸鍍的鍍膜速率較快。離子鍍不但密度較高、晶粒較小，而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中較大的，只是離子鍍膜較大的缺點是基板必需是導(dǎo)電材料，并且鍍膜時基板的溫度會升高到攝氏幾百度，上述的缺點使離子鍍的應(yīng)用受到很大的限制。目前，濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，用濺射靶材沉積的薄膜致密度高，與基材之間的附著性好，所以從理論而言，濺射鍍膜的性質(zhì)，牢固度都比熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)薄膜好。產(chǎn)品包括金屬靶材（釕、金、銀、銠、銥、合金）、金屬靶材、陶瓷/氧化物靶材公司擁有雄厚的技術(shù)力量、現(xiàn)代化的準確設(shè)備和先進的檢測手段。

作為濺射靶材使用的難熔金屬主要指鎢鉬鉭鈮。難熔金屬材料作為濺射已經(jīng)運用在包括液晶顯示器、薄膜太陽能光伏、智能玻璃在內(nèi)的多個領(lǐng)域。其中難熔金屬旋轉(zhuǎn)靶材是制造難熔金屬薄膜的必選材料。難熔金屬靶材需要具備包括高密度，通常不低于理論密度的98%以及較低的氧含量，一般小于1000PPM。積初期通過純氬燒靶很容易去除，但如果不做處理，積會逐漸長大并引起嚴重的打弧影響生產(chǎn)。每次生產(chǎn)前應(yīng)對靶材用強電流對靶材進行燒靶，以清理靶材表面的雜質(zhì)。并定期對真空腔室進行打磨、吸塵及擦拭處理，對包網(wǎng)進行噴砂處理以去掉附著在上面的金屬反應(yīng)物從而保證潔凈的鍍膜環(huán)境。鍍膜腔室的環(huán)境也會影響靶材的使用，從而影響成膜的質(zhì)量。濺射鍍膜是制備薄膜的主要技術(shù)之一。

靶材的材料、形狀也會有所差異。根據(jù)形狀可分為長(正)方體形、圓柱體形、無規(guī)則形以及實心、空心靶材。靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料，故靶材也叫濺射靶材（純度：99.9%-99.999%），具有較高的技術(shù)壁壘。銀是目前使用廣泛的導(dǎo)電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對濺射靶材金屬純度的要求相比，太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，99.995%（4N5）以上。高純貨品靶材被譽為半導(dǎo)體芯片材料的強者，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來，相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用廣泛。

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