陶瓷靶材在現(xiàn)有的復(fù)雜電子產(chǎn)品制造中，只不過(guò)占工程的較少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導(dǎo)材料的作用。我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來(lái)對(duì)陶瓷濺射靶材的研究和開(kāi)發(fā)，是我國(guó)靶材供應(yīng)商的一個(gè)重要的課題。　　隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。　　陶瓷靶材的特性要求：　�。�1）純度：陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N�！　。�2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好�！　。�3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好�！　�濺射陶瓷靶材的制備，常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻，磨具制作方便，成本較低等優(yōu)點(diǎn)，故而成為較常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結(jié)常采用常壓燒結(jié)、熱壓燒結(jié)及氣氛燒結(jié)等方法。 [詳情]

隨著市場(chǎng)需求的變化，中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分，近年國(guó)內(nèi)的靶材行業(yè)發(fā)展迅速，靶材供應(yīng)商紛紛加大研發(fā)和投入，廣東的靶材供應(yīng)商發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁，中高等的靶材制造商在廣州實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類也越來(lái)越豐富 ：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶，鎳鉻靶等。靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應(yīng)用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，這些企業(yè)紛紛從原來(lái)的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。伴隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。陶瓷靶材的特性要求： （1）純度：陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。 （2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好。 （3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。相信在不久的將來(lái)，國(guó)內(nèi)會(huì)有更多的靶材供應(yīng)商，向國(guó)外中高等靶材市場(chǎng)發(fā)起一波強(qiáng)而有力的沖擊。 [詳情]

目前國(guó)內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多，其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法，以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢(shì)，是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一，以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽(yáng)能電池、發(fā)光二較管等產(chǎn)業(yè)上獲得了廣泛應(yīng)用。目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有： 1. 熱等靜壓法是將粉末或預(yù)先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)，成型和燒結(jié)同時(shí)進(jìn)行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結(jié)方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且該方法設(shè)備偏貴、成本偏高的缺點(diǎn)，使熱等靜壓法在ITO陶瓷靶材的制備上不再具備競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，后續(xù)的研究和產(chǎn)業(yè)化逐漸被產(chǎn)業(yè)界淡化，但還是比較適合需要缺氧的陶瓷靶材 。2. 冷等靜壓法是將預(yù)先成型的素坯放入橡膠包套內(nèi)浸于高壓液體下使之承受各向同性的壓力，實(shí)現(xiàn)素坯密度的強(qiáng)化。冷等靜壓只是獲得密度盡可能高的素坯，使素坯的燒結(jié)致密化更為容易。由于冷等靜壓不具有熱等靜壓的燒結(jié)能力，需要單獨(dú)的燒結(jié)工藝對(duì)素坯進(jìn)行燒制。冷等靜壓能生產(chǎn)大尺寸的靶材，是目前多數(shù)企業(yè)優(yōu)先選擇的成型方法。國(guó)內(nèi)外的成型研究表明，冷等靜壓法可以制備出滿足陶瓷靶材所需的高品質(zhì)素坯。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時(shí)，由于受到腔室尺寸的限制，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備投入資金非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸非常大時(shí)存在變形問(wèn)題。同時(shí)，壓制不同尺寸的素坯時(shí)，需要制備不同規(guī)格的預(yù)壓模具，模具成本較高。3. 噴涂法是利用高壓氣體（N2、H2 、混合氣體或空氣）攜帶粉末顆粒經(jīng)縮放管產(chǎn)生超音速雙相流，在完全固態(tài)下撞擊基體，通過(guò)非常大的塑性流動(dòng)變形沉積于綁定背板表面而形成涂層，涂層逐層增厚，獲得陶瓷靶材。由基本的噴涂法又衍生出等離子體噴涂、電弧噴涂、超音速火焰噴涂、冷噴涂等噴涂成型技術(shù)。使用氧化鈮粉體和少量金屬Nb，用等離子體噴涂實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化制備旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶材。近年來(lái)，用噴涂成型工藝在高等的ITO、AZO、IGZO靶材成型上有了非常大的打破，廣州、深圳等地的大型的靶材制造商已成功制備出高性能的靶材。4. 濕法成型是通過(guò)將氧化物粉體制備成漿料，然后通過(guò)自我凝固、吸水或者壓濾等方式實(shí)現(xiàn)特定外形的素坯，干燥后獲得高密度的素坯。濕法成型不僅可以實(shí)現(xiàn)冷等靜壓成型的功能，而且還能彌補(bǔ)冷等靜壓成型的不足。陶瓷靶材的濕法成型有注漿成型、膠態(tài)成型、直接凝固成型等。噴涂法是目前應(yīng)用較多的技術(shù)，其制備的產(chǎn)品品質(zhì)高，穩(wěn)定性好。除了以上所述成型方法外，人們還研究了沖擊成型法和爆開(kāi)成型法等，目前這些新型成型方法尚在研究階段，要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化還有很多研究工作需要進(jìn)一步細(xì)化。 [詳情]

? ? 近些年來(lái)，平面顯示器走進(jìn)千家萬(wàn)戶的家庭之中，人們看電視時(shí)的液晶電視，智能手機(jī)的觸摸屏等等，這些設(shè)備都運(yùn)用到了ITO靶材。在沒(méi)有這種材料之前，人們使用的是臺(tái)式電腦，臺(tái)式電視，使用的是滑蓋手機(jī)，翻蓋手機(jī)等。隨著平板顯示器尺寸大型化的發(fā)展，對(duì)ITO靶材尺寸及密度的要求也越來(lái)越高，熱壓設(shè)備與技術(shù)已遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足其要求。因此，以燒結(jié)工藝生產(chǎn)大尺寸、高密度ITO靶材已成為國(guó)內(nèi)各大靶材生產(chǎn)廠家研發(fā)的要點(diǎn)。? ? ITO靶主要用于ITO膜透明導(dǎo)電玻璃的制作，后者是制造平面液晶顯示的主要材料，在電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)方面有著廣闊而重要的應(yīng)用。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中，但主要應(yīng)用于平板顯示器中，它是濺射ITO導(dǎo)電薄膜的主要原料，沒(méi)有它的存在，諸多的材料將無(wú)法實(shí)現(xiàn)正常加工以及設(shè)計(jì)。ITO靶材的用途: LCD經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的發(fā)展后，產(chǎn)品質(zhì)量不斷提升，成本也不斷下降，對(duì)ITO靶材的要求也隨之提高，因此，配合LCD的發(fā)展，未來(lái)ITO靶材發(fā)展大致有以下的趨勢(shì)： 1.降低電阻率。隨著LCD愈來(lái)愈精細(xì)化發(fā)展的趨向，以及它的驅(qū)動(dòng)程序不同，需要更小電阻率的透明導(dǎo)電膜。 2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來(lái)的益處主要表現(xiàn)在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為密度小時(shí)，有效濺射表面積會(huì)減少，濺射速度也會(huì)降低，靶材表面黑化趨勢(shì)加劇。高密度靶的表面變化少，可以得到低電阻膜。靶材密度與壽命也有關(guān)，高密度的靶材壽命較長(zhǎng)，意味著可降低靶材成本。 3.尺寸大型化。隨著液晶模塊產(chǎn)品輕薄化和低價(jià)化趨勢(shì)的不斷發(fā)展，相應(yīng)的ITO玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢(shì)，因此ITO靶材單片尺寸大型化不可避免。 4.靶材本體整體化。如前所述，靶材將朝大面積發(fā)展，以往技術(shù)能力不足時(shí)，必須使用多片靶材拼焊成大面積，但由于接合處會(huì)造成鍍膜質(zhì)量下降，因此目前大多以一體成形為主，以提升鍍膜質(zhì)量與使用率。未來(lái)新世代LCD玻璃基板尺寸的加大，對(duì)靶材生產(chǎn)廠家是一項(xiàng)嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)。 5.使用效率高率化。靶材使用率的提升，一直是設(shè)備商、使用者及靶材制造商共同努力的方向。目前靶材利用率可達(dá)40%，隨著液晶顯示器行業(yè)對(duì)材料成本要求的提高，提高ITO靶材的利用率也將是未來(lái)靶材研發(fā)的方向之一。? ? 近年來(lái)，國(guó)內(nèi)的靶材廠家發(fā)展速度，以尤特新材料為首的靶材生產(chǎn)商，加大了研發(fā)的投入，并引進(jìn)國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)和檢驗(yàn)設(shè)備，其制造的靶材已達(dá)到國(guó)外先進(jìn)進(jìn)口靶材的品質(zhì)，5N6N的高純靶材生產(chǎn)技術(shù)也日趨成熟。相信，不久將來(lái)，國(guó)內(nèi)的靶材企業(yè)能在全部市場(chǎng)上也占有一席之地。 [詳情]

陶瓷靶材的種類及其應(yīng)用? ? 隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。? ? 國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。陶瓷靶材的種類： （1）按應(yīng)用來(lái)分，可分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。 （2）按化學(xué)組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國(guó)內(nèi)已廣泛生產(chǎn)應(yīng)用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應(yīng)用前景。? ? 陶瓷靶材在現(xiàn)有的復(fù)雜電子產(chǎn)品制造中，只不過(guò)占工程的較少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導(dǎo)材料的作用。? ? 國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來(lái)對(duì)陶瓷濺射靶材的研究和開(kāi)發(fā)，是我國(guó)靶材供應(yīng)商的一個(gè)重要的課題。 [詳情]

? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長(zhǎng)度4000mm，單節(jié)較好大長(zhǎng)度250mmm，? ? 厚度:可根據(jù)客戶要求定做陶瓷平面靶材采用燒結(jié)及綁定工藝? ? 可生產(chǎn)較好大長(zhǎng)度600mm，較好大寬度400mmm，較好大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。? ? 相對(duì)密度>99%? ? 純度:>99.99%～99.999%，應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、觸摸屏工業(yè)、顯示器工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、低輻射鍍膜玻璃工業(yè)。? ? 氧化鋅摻鋁（AZO）薄膜因無(wú)害、成本低、Zn 源材料豐富以及在 H 等離子體中性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)得到廣泛的研究，尤其作為前電較應(yīng)用在薄膜太陽(yáng)能電池中 。在AZO薄膜的制備方法中，磁控濺射技術(shù)具有成膜致密和成本低等優(yōu)點(diǎn)，其中以直流和射頻磁控濺射研究較好廣。? ? 目前大部分國(guó)家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國(guó)、寶島、中國(guó)、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國(guó)。中國(guó)市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長(zhǎng)之中未。來(lái)靶材產(chǎn)品會(huì)廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)硬盤、半導(dǎo)體、TFT平面顯示、手機(jī)、低輻射玻璃等行業(yè)。? ? 我們立志為靶材的國(guó)產(chǎn)化作出了重要貢獻(xiàn)，任重而道遠(yuǎn)。我們依托雄厚的技術(shù)力量，工具鍍靶材，不斷創(chuàng)新、創(chuàng)優(yōu)，追求更新、更強(qiáng)、更高的發(fā)展目標(biāo)，竭誠(chéng)為顧客提供更好的產(chǎn)品、更好的服務(wù)。歡迎各界同仁前來(lái)洽談業(yè)務(wù)，共謀發(fā)展。 [詳情]